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第232章 美柚轰动全网,雷布斯的出路

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  虽然芯片工厂问题不大,有帝都提供,王逸可以省下几十亿。

但里面的生产线,光刻机等设备,都要王逸自己解决。

这些才是最贵的,保守估计后续投入也得一百五十亿起步。

像是光刻机,2010年阿斯麦就推出了EUV光刻机TWINSCAN NXE:3100。

前世,2013年阿斯麦又推出EUV光刻机 NXE:3300。

不过这些先进的EUV光刻机,王逸就不考虑了,不现实,不可能对内地企业出售的。

前世中芯国际订购了一台EUV光刻机,花了1.2亿美金,钱都付了,最后因为帝国阻挠,阿斯麦也迟迟没有发货。

相反,内地企业能买到的,也就是落后很多代的DUV光刻机。

比如2016年出的NXT 1980Di,是前世内地企业买到的最先进光刻机之一,也是中芯国际主力机型。

更先进的DUV光刻机NXT:2000i,都买不到,更别说NXT:2050i。

NXT 1980Di原本用于制造300nm-38nm制程,二重曝光后可以达到19nm制程。

中芯国际,华力等企业,都是用NXT 1980Di二重曝光,量产28-19nm的芯片。

同样,要用 NXT:1980Di来制造14nm、7nm的芯片,那就得靠多重曝光技术,对厂家的技术要求非常高,量产芯片的成本也很高。

最初,台积电用NXT:1980Di来制造7nm芯片,效果很不理想,良品率低,成本高,最后还是换上EUV光刻机,才实现了完美的7nm。

但中芯国际买不到EUV光刻机,只能硬着头皮用NXT 1980Di进行三重曝光,四重曝光,甚至五重曝光。

幸好梁老能力突出,在多重曝光领域造诣颇深,硬是推出N+1、N+2工艺,用NXT 1980Di这种落后的光刻机,实现了14nm、10nm,甚至7nm。

梁老的两重曝光技术,不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上,成本也不会增加太多。

使得中芯国际的28nm工艺大规模量产,能满足大多数芯片需求。

14nm需要三重曝光,凭借梁老的技术,良品率和成本也能保证。

可7nm制程,就要用NXT 1980Di四重曝光,技术方面梁老都能解决,但良


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